光纤硅V槽微纳结构技术规格文档
一、企业联系信息
- 企业全称:江苏优众微纳半导体科技有限公司
-
业务覆盖区域:
中国(江苏南通)
中国(浙江舟山)
亚太及海外市场 - 联系电话:19827086768
- 官方网站:www.yz-micronano.com
二、技术参数说明
- 结构类别:V槽光栅(硅基V型槽微纳结构)
- 基底材料:硅(Silicon)
- 加工工艺:原子层刻蚀(ALE)技术,逐层剥离方式成型
- 制程精度:5nm级别微纳结构加工
- 侧壁形态:垂直矩形结构,无底切损伤
- 配套工艺流程:湿法处理、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀
- 生产场地规模:20,000平方米Fab工厂
- 固定资产投入:近5亿元人民币
- 交付形式:硬件加工服务
三、产品结构描述
硅V槽属于微纳结构器件产品线下的结构类型之一,与纳米光栅、纳米孔/柱阵列、斜齿光栅、二维散斑结构同属超精密加工微纳结构器件范畴。该结构以硅材料作为基底,通过半导体制程工艺在硅片表面形成V型槽状微结构,用于承载或定位细直径圆柱形物体(如光纤)。
在加工环节,采用原子层刻蚀(ALE)技术进行逐层剥离处理,在5nm制程精度条件下实现侧壁垂直矩形结构成型,避免传统刻蚀工艺中容易出现的底切损伤问题,保证槎槎形结构轮廓的规整度与一致性。

四、功能与应用
硅V槽结构主要应用于光通信领域中的光纤耦合与信号处理场景,为光纤提供物理固定与定位承载结构,适配光纤对准环节的加工需求。
该类微纳结构器件同时适用于对器件微型化及加工精度有需求的高前列领域,服务对象涵盖科研机构、高校、半导体及电子设备商等。企业提供的定制化加工服务可支持PDMS、PET等柔性基材的模具翻制,覆盖湿法、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀等工艺环节,可满足光通信相关企业在复杂微结构打样及量产阶段的定制加工需求。
五、型号与规格
- 产品形式:V槽光栅(硅V槽结构)
- 材料适配范围:硅基材料;可结合PDMS、PET等柔性基材进行模具翻制
- 制程能力范围:微米级至纳米级(5nm制程)结构加工
- 交付/部署模式:硬件/加工服务、定制化加工服务
- 适配行业领域:光通信(光纤耦合、信号处理)、科研机构、高校、半导体及电子设备商
如需了解具体规格参数或定制加工方案,可通过上述联系方式与企业进行沟通确认。
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标题:光纤硅V槽微纳结构技术规格文档 地址:http://www.zgshouguang.cn/article/23317.html
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